N-TOPCon (Amorphous Top Surface Connection) teknologi er en halvlederproduktionsteknologi, der hjælper med at forbedre batteriernes elektronopsamlingseffektivitet og forhindrer elektrontilbagestrømning ved at tilføje en tynd film af amorft silicium på korngrænseområdet for siliciummaterialer.Denne teknologi kan også optimere cellens fotoelektriske konverteringseffektivitet, især under dårlige lysforhold.